Sauerstoff- und Ozon-Monitoring mit 172 nm-Excimerstrahlung

Ziel des Projektes war die Entwicklung von Prototypen für einfach zu handhabende und preiswerte Messgeräte zur Sauerstoff-, Ozon- und Photonenflussmessung in den Bereichen der UV-Lackaushärtung, Trocknung und Oberflächenmodifikation bei λ = 172 nm.

Im Ergebnis der Projektbearbeitung wurden die Prototypen für die Messgeräte zur Sauerstoffkonzentrationsmessung und zur Photonenflussmessung aufgebaut und erprobt.

• Bei dem Messverfahren zur Sauerstoffkonzentrationsbestimmung wurde neben dem optoelektronischen Verfahren auch ein Verfahren mit Chemischem Sensor untersucht. Nach Vergleich der Messwertstreuungen und Kosten für das Messsystem wurde dem Chemischen Sensor der Vorzug gegeben und der Prototyp nach diesem Verfahren aufgebaut.
• Bei der Photonenflussmessung war insbesondere die Stabilität der Photodiode nachzuweisen, was auch gelungen ist, so dass ein Messgerät unter Einhaltung der angestrebten Kosten zur Verfügung steht.
• Das Messverfahren zur Ozon-Bestimmung konnte gegenüber bekannten Verfahren nicht so modifiziert werden, dass es bei dem speziellen Einsatz bei der Oberflächenmodifikation bei λ = 172 nm zu wesentlichen Kostensenkungen bei gleichzeitiger Sicherung der Stabilität und Messtoleranzen führen würde.

Ergebnistransfer: Fa. G.E.R.U.S. mbH (Berlin-Köpenick)